等離子活化具有極為廣泛的應用領域,這使其成為行業中廣受關注的核心表面處理工藝。
臺式等離子體通過RF電源產生電離氣態的加速電子,離子和自由基共存的等離子體,與固體表面相互作用會導致三種表面清潔的基本現象:
1.從電子 - 樣本相互作用加熱;
2.從離子樣品相互作用中濺射;
3.與根本樣品的相互作用中進行灰化
所有等離子體在清潔速率方面是有效的,但它可以導致不可逆的表面樣品改性(氧化)和不必要的加熱(如果樣品對溫度敏感的話)。
上圖中可以看到在電極附近的氧等離子體和碳膜附近的等離子體的密度是不相稱的。
在真空度相對較高情況下,氧氣轉化為氧等離子體較為活躍,在相對較低的壓力中,氧等離子體與碳分子的更有利于碳氧化合物的結合。
鋁合金材質電極與氧氣一起獲得的典型清潔曲線射頻等離子。
(a)靜態供氣模式下的清潔
(b)動態供氣模式下的清潔。
垂直的黑色(a)中的箭頭表示O2氣體補充。壓力和功率數據表明了不同的工藝參數分別表示氧分壓和RF功率。綠色圓圈代表清潔的終點當高速鋼上的碳涂層被完全去除時的過程。
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